KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡

KLA 白光共聚焦顯微鏡介紹：

KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡基于ZDot技術而來。Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡可以對大部分材料和結構進行成像分析，從光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介質(zhì)。KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡使用模塊化設計理念，為用戶提供了一系列的硬件和軟件選項來滿足各種不同的測量需求，所有硬件安裝和操作都簡單易用。

KLA 白光共聚焦顯微鏡特點：

• Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡提供多種光學測試技術，以滿足用戶各種不同領域的測試需求。

• ZDotZ點陣三維成像技術是Zeta所有系列產(chǎn)品的標配技術，Z點陣的明暗場照明方案結合不同物鏡幫助客戶測量“困難"的表面。

• ZIC干涉反襯成像技術，實現(xiàn)納米級粗糙度表面的成像及分析。

• ZSI白光差分干涉技術，垂直方向分辨率可達埃級。

• ZI 白光干涉技術，大視場下納米級高度的理想測量技術。      

• ZFT反射光譜膜厚分析技術，集成寬頻反射光譜分析儀，可測量ULA+ 2et-20薄膜材料的厚度、折射率和反射率。

產(chǎn)品優(yōu)勢：

• 重復性和再現(xiàn)性

• 接觸式測量，適用于多種材料

• 測量軟材料的微力控制

• 梯形失真校正可大幅度減少側視圖造成的失真

• 弧形校正補償探針的弧形運動

產(chǎn)品測量原理：

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡的原理是通過共聚焦原理實現(xiàn)樣品的高分辨率、高對比度的光學切片能力。它結合了傳統(tǒng)光學顯微鏡和激光共聚焦顯微鏡的特點，利用寬譜白光作為光源，通過空間濾波機制消除離焦光干擾，從而獲得高精度的三維圖像。

主要應用：

產(chǎn)品參數(shù)：

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡測量圖：

自動缺陷檢查

臺階高度