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首頁 > 技術文章
  • 光學膜厚測量儀樣品制備與測試流程
    2026-4-8 94
    光學膜厚測量儀主要利用光干涉原理對各類薄膜厚度進行非接觸式檢測,樣品制備規(guī)范與否、測試流程是否標準,直接決定測量結果的準確性與重復性。一、樣品制備要求樣品表面處理樣品表面應保持清潔、干燥、無油污、無指紋、無灰塵,避免雜質(zhì)影響光反射與干涉信號。可用無塵布蘸取無水乙醇輕輕擦拭,自然晾干后再進行測試。表面平整度要求被測區(qū)域應平整光滑,無明顯劃痕、凸起、針孔或脫落,局部凹凸過大會導致光路偏移,造成讀數(shù)偏差。基底與邊緣要求盡量選擇無翹曲、無變形的樣品,測試點避開邊緣崩邊、裂紋及破損區(qū)域...

  • 四探針電阻率測量儀用途、工作原理及使用注意事項
    2026-4-4 62
    四探針電阻率測量儀是一種用于測量各類材料電阻率的精密檢測設備,核心由四探針探頭、信號處理模塊、顯示控制單元組成,采用四探針測量法規(guī)避接觸電阻干擾,檢測精度高、操作便捷。該設備可適配半導體、金屬、電解質(zhì)等多種材料的電阻率檢測,廣泛應用于科研、生產(chǎn)等場景,是材料性能檢測中的重要設備,正確使用和規(guī)范維護能保障檢測結果的可靠性和設備使用壽命。電阻率是材料的核心物理特性之一,直接反映材料的導電能力,其測量結果對材料研發(fā)、產(chǎn)品質(zhì)量管控具有重要意義。四探針電阻率測量儀憑借獨特的測量方式,有...

  • XRF鍍層測厚儀選型要點總結
    2026-3-9 186
    XRF鍍層測厚儀作為無損檢測領域的核心設備,廣泛應用于電子、五金、電鍍、汽車等行業(yè),用于精準測量金屬、非金屬鍍層的厚度,其選型的合理性直接決定測量精度、使用效率及適配性。為幫助用戶避開選型誤區(qū),精準匹配實際檢測需求,結合XRF鍍層測厚儀的技術特性,總結以下核心選型要點,兼顧實用性與專業(yè)性。一、明確檢測核心需求選型的前提是清晰界定自身檢測需求,避免盲目追求高配置造成成本浪費,也防止配置不足無法滿足檢測要求,核心關注3點:鍍層類型與材質(zhì):明確被測鍍層是單一鍍層(如鎳層、鉻層、金層...

  • 光學膜厚測量儀的用途、工作原理與使用注意事項
    2026-3-2 148
    光學膜厚測量儀是一種非接觸、無損檢測薄膜厚度的精密儀器,廣泛應用于半導體、平板顯示、光學鍍膜、光伏及精密制造等行業(yè)。它通過分析光與薄膜表面相互作用產(chǎn)生的干涉或反射信號,快速獲取單層或多層薄膜的厚度、折射率等參數(shù),為工藝控制和質(zhì)量檢驗提供關鍵數(shù)據(jù)支持。以下從用途、工作原理和使用注意事項三方面進行介紹。一、主要用途光學鍍膜監(jiān)控:用于增透膜、反射膜、濾光片等光學元件鍍膜過程中的實時或離線厚度檢測,確保光學性能達標。半導體制造:測量光刻膠、氧化層(SiO?)、氮化硅(Si?N?)等薄...

  • 一文看懂KLA光學輪廓儀的應用與使用維護
    2026-2-5 145
    KLA光學輪廓儀是一類基于非接觸式光學技術的三維表面形貌測量設備,廣泛應用于半導體、微電子、精密制造、材料科學及科研等領域。作為高精度表面計量工具,它能夠快速獲取樣品的三維形貌、粗糙度、臺階高度、體積、平面度等關鍵參數(shù),為工藝控制和質(zhì)量評估提供可靠數(shù)據(jù)支持。應用領域在半導體制造中,KLA光學輪廓儀用于測量光刻膠厚度、刻蝕深度、化學機械拋光(CMP)后的表面平整度以及晶圓翹曲等;在先進封裝領域,可檢測焊球高度、RDL線路形貌及TSV(硅通孔)結構;在MEMS器件研發(fā)中,用于表征...

  • KLA光學輪廓儀的表面形貌檢測應用
    2026-1-23 313
    KLA光學輪廓儀是基于非接觸式光學干涉原理的高精度表面形貌檢測設備,具備納米級分辨率與三維成像能力,可實現(xiàn)對樣品表面粗糙度、臺階高度、微觀形貌的快速精準分析,廣泛應用于半導體、材料科學、微電子、精密制造等領域。以下是其核心應用場景與檢測要點:一、半導體行業(yè)——芯片制程與器件檢測半導體領域是KLA光學輪廓儀的核心應用場景,直接關系到芯片良率與性能穩(wěn)定性。晶圓表面形貌檢測檢測晶圓拋光后的表面粗糙度(Ra、Rq)與平整度,確保晶圓表面無劃痕、顆粒污染、凹陷等缺陷;同時可測量晶圓上光...

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